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신품 MKS Baratron 627BX13TDC1BS179 정전용량식 압력계

신품 MKS Baratron 627BX13TDC1BS179 정전용량식 압력계

신품 MKS Baratron 627BX13TDC1BS179 정전용량식 압력계

높은 정밀도, 안정적인 성능

산업 자동화에 적합

재고 보유 & 전 세계 빠른 배송

  • 품목 번호.:

    627BX13TDC1BS179
  • 주문(MOQ):

    1
  • 지불:

    100% T/T
  • 제품 원산지:

    USA
  • 색상:

    As Model
  • 선적항:

    Xiamen
  • 리드타임:

    2-3 days
  • 제품 세부정보

설명:

MKS Baratron 캐패시턴스 마노미터는 반도체 진공 공정 장비의 업계 표준으로 사용되는 프리미엄 고정밀 절대 진공/압력 트랜스듀서입니다. 특허받은 정전용량 다이어프램 센싱 기술을 기반으로 가스 종류에 독립적인 압력 측정을 제공하며, 공정 가스 조성의 영향을 전혀 받지 않습니다. AMAT, LAM Research 및 주요 웨이퍼 제조 플랫폼과 널리 호환되며, 식각(etching), CVD, PVD, ALD 및 가스 공급 시스템에서 초안정 폐루프 압력 제어를 제공하여 반도체 제조에서 일관된 챔버 진공 정밀도를 보장하고 생산 수율을 향상시킵니다.
 
 
 
주요 사양:
  1. 최상위 수준의 정확도 ±0.25% (측정값 기준), Full Scale 0.01%의 초미세 분해능, 뛰어난 장기 안정성과 최소 드리프트로 엄격한 반도체 공정 요구사항을 충족MKS.
  2. 다이어프램 및 유체 접촉 부품은 Inconel® / Incoloy® 니켈 합금 또는 316L 스테인리스 스틸을 채택하고 완전 용접 구조로 제작되어 부식성 특수 공정 가스에 강합니다. 또한 출하 전에 100% 누설 테스트를 거쳐 가혹한 플라즈마 환경에서도 안전하게 작동할 수 있습니다.
  3. 초미세 진공부터 고압까지 대응: 0.1 mTorr ~ 3000 PSIA. 히터 장착 모델(45℃ / 100℃ 선택 가능)은 휘발성 공정 매체의 응축을 효과적으로 방지하여 측정 편차를 예방합니다.
 
 
 

적용 분야:

  1. 반도체 팹 장비: AMAT Centura/Endura, LAM Kiyo/2300 식각 시스템
  2. 박막 증착, 플라즈마 식각 및 이온 주입을 위한 정밀 진공 제어
  3. MFC 가스 캐비닛, 진공 펌핑 시스템, 누설 감지 및 압력 안전 인터록
  4. 태양광 PV, LED 코팅, 제약 진공 공정 및 실험실 고정밀 진공 테스트

 

 

FAQ:

Q1: 제품 상태 및 보증은 어떻게 되나요?
A: 신품 정품이며 1년 보증이 포함됩니다.

Q2: 결제 조건은 어떻게 되나요?
A: T/T, Paypal 결제 지원됩니다.

Q3: 제품 배송 시간은 어떻게 되나요? 재고는 충분한가요?
A: 표준 모델은 재고 보유 중이며, 결제 후 3~5 영업일 내 발송됩니다. 희귀 모델은 제조사 주문이 필요하므로 일정은 고객센터에 문의해 주시기 바랍니다.

Q4: 배송 및 추적
A: DHL/FedEx/UPS 이용 가능합니다. 발송 후 운송장 번호 및 링크가 제공되며, 전 과정 모니터링이 가능합니다.

Q5: 포장 및 안전

 

A: 원본 브랜드 포장에 강화 보호 포장(폼, 밀봉 박스, 정밀 장비용 목재 크레이트)을 적용하며, 방습 및 충격 방지 처리가 되어 있습니다.

 

 

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